Ingénieur ou ingénieure de recherche en nanofabrication / lithographie électronique sur des dispositifs

Contexte :
SPINTEC (Spintronique et technologie des composants) est un laboratoire du CEA-Grenoble, du CNRS et
de l'Université Grenoble Alpes. Il a une activité de recherche en spintronique, travaillant à
l'interface entre des activités fondamentales et d'autres plus applicatives, souvent en lien avec
des partenaires industriels. SPINTEC produit des connaissances nouvelles, valorisées sous forme de
publications, mais contribue également à convertir ces connaissances en innovation (dépôt de
brevets, actions de valorisation). Ses projets sont organisés autour d'environ 35 chercheurs, pour
un total de 120 personnes (dont personnels ingénieurs et techniques, doctorants et non-permanents).
Le laboratoire est impliqué dans de nombreuses collaborations internationales, dont des projets
européens.

Travailler entre l'électronique et le magnétisme requiert de contrôler des filières de
nanofabrication à l'état de l'art et d'en développer de nouvelle de par la spécificité des matériaux
et des gravures associées.

Intégré-e dans le groupe technique qui comprend 3 équipes (Matériaux / Instrumentation /
Nanofabrication) de 11 agents au total, et référant directement au responsable de l'équipe
Nanofabrication, l'ingénieur-e travaillera en interaction :
- avec les équipes du laboratoire pour l'organisation la gestion et le développement des filières de
nanofabrication.
- avec les équipes techniques de la salle blanche pour le suivi des équipements, le choix de futur
équipement et le transfert d'informations avec le laboratoire.
- avec les encadrants de thèse pour le suivi en salle blanche des travaux des doctorants et aider au
développement des nouveaux procédés.

Horaires standards, quotité 100%, travail dans un environnement salle blanche et avec des
équipements de salle blanche, habilitation électrique et chimique.

Moyens mis à disposition : équipement de salle blanche, ordinateur portable, accès au logiciel pour
mener à bien sa mission.
Competence :
Savoirs fondamentaux
- Connaissance théorique et expertise en lithographie électronique, photolithographie UV et
lithographie laser.
- Connaissance théorique et expertise en gravure Ion Beam Etching (IBE) et Reactive Ion Etching
(RIE).
- Connaissance théorique et expertise en dépôt PVD et Ion Beam Deposition (IBD).
- Connaissance théorique et savoir-faire en métrologie (MEB, profilomètre, ellipsomètre, SIMS, OES).

Savoir-faire opérationnels
- Savoir-faire en procédures d'optimisation systématique, protocoles expérimentaux associés et
démarche qualité dans l'optimisation et la pérennisation de filières de nanofabrication.
- Savoir rédiger un cahier des charges, construire un budget et suivre son exécution
- Répondre aux sollicitations de partenaires ou clients industriels : mission d'expertise avec mise
en place de collaborations ou de prestations.
- Risques professionnels
- Langue anglaise : B2 à C1 (cadre européen commun de référence pour les langues)

Savoir-être
- Savoir travailler en interaction avec des équipes de recherche et des équipes techniques, multi-
tutelles (communication, esprit d'équipe, engagement)
- Déléguer et responsabiliser le personnel non permanent travaillant en salle blanche
- Faire preuve d'autonomie, prendre des initiatives et être force de proposition, planification des
tâches
- Communiquer et rendre compte des avancements sur les procédés de fabrication
- Compétences d'encadrement et d'animation
- Faire preuve de rigueur et de précision