Couches minces a-SiC pour circuits photoniques intégrés (DC2) H/F

Référence : UMR5266-FREMER-004

  • Fonction publique : Fonction publique de l'État
  • Employeur : Centre national de la recherche scientifique (CNRS)
  • Localisation : 38402 ST MARTIN D HERES (France)
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Date limite de candidature : 09/04/2026

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  • Nature de l’emploi Emploi ouvert uniquement aux contractuels
  • Nature du contrat

    CDD de 3 ans

  • Expérience souhaitée Non renseigné
  • Rémunération Fourchette indicative pour les contractuels La rémunération est d'un minimum de 2600,00 € mensuel € brut/an Fourchette indicative pour les fonctionnaires Non renseignée
  • Catégorie Catégorie A (cadre)
  • Management Non renseigné
  • Télétravail possible Non renseigné

Vos missions en quelques mots

Sujet de thèse :
Le CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes recherche un candidat hautement motivé pour un poste de doctorat entièrement financé (36 mois) axé sur le dépôt de couches minces pour des applications photoniques.
Ce poste s'inscrit dans le cadre du projet « Silicon carbide photonic integrated circuit (SiCPIC) », un prestigieux réseau doctoral européen financé par le programme de recherche et d'innovation Horizon Europe de l'Union européenne dans le cadre de l'action Marie Skłodowska-Curie (MSCA), convention de subvention n° 101227010.
• Collaboration internationale : le doctorant rejoindra une équipe internationale de 15 doctorants issus de cinq pays européens, en partenariat avec 5 universités et une entreprise.
• Collaboration industrielle : la thèse se déroule en collaboration avec l'entreprise PlasmaTherm Europe.
• Thème de recherche : les 15 projets de doctorat s'inscrivent dans le thème du projet « Dispositifs en carbure de silicium sur isolant (SiCOI) et intégration pour des applications dans les télécommunications optiques classiques et quantiques et la détection optique ».
Ce projet de doctorat se déroulera au CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes (France) et bénéficiera de missions chez les partenaires du réseau SiCPIC (Plasma-Therm, DTU, PoliTO).

Cette thèse a pour objectif d’optimiser et comprendre les procédés de dépôt de couches minces de carbure de silicium amorphe (a-SiC) par ICPCVD (Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition) et PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), en collaboration avec l’entreprise Plasma-Therm. Une approche méthodique, combinant expérimentations avancées et planification d’expériences (DoE), sera mise en œuvre pour explorer les liens entre les paramètres de dépôt (puissance plasma, température du substrat, pression, composition de la phase gazeuse), la structure chimique des films, et leurs propriétés optiques et électriques.
Une attention particulière sera portée à l’étude des effets du recuit (laser et thermique) sur la stabilité et les performances des couches, via des caractérisations ex situ (spectroscopie Raman, diffraction des rayons X, ellipsométrie) et in situ (mesures de contraintes, analyses structurales).

La personne recrutée sera formée à l’ingénierie des procédés plasma (ICPCVD/PECVD), à la planification d’expériences (méthodes statistiques et numériques), à la caractérisation multi-échelle des couches minces (caractérisations structurales, chimiques et optiques).

Résultats attendus :
- Compréhension approfondie des mécanismes liant les paramètres de dépôt (IPCVD et PECVD), la physico-chimie des films (structure, contraintes, composition) et leurs propriétés optoélectroniques.
- Optimisation des traitements post-dépôt (recuit laser/thermique) pour améliorer la stabilité et les performances des dispositifs.
- Contribution à l’intégration des couches a-SiC dans des circuits photoniques classiques et
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Profil recherché

Contraintes et risques :

Niveau d'études minimum requis

  • Niveau Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents
  • Spécialisation Formations générales

Langues

  • Français Seuil

Qui sommes-nous ?

Le Centre national de la recherche scientifique est un organisme public de recherche pluridisciplinaire placé sous la tutelle du ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation.

C’est l’une des plus importantes institutions publiques au monde : 33 000 femmes et hommes (dont plus de 16 000 chercheurs et plus de 16 000 ingénieurs et techniciens), en partenariat avec les universités et les grandes écoles, y font progresser les connaissances en explorant le vivant, la matière, l’Univers et le fonctionnement des sociétés humaines.

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À propos de l'offre

  • Le Centre national de la recherche scientifique est l’une des plus importantes institutions publiques au monde : 34 000 femmes et hommes (plus de 1 000 laboratoires et 200 métiers), en partenariat avec les universités et les grandes écoles, y font progresser les connaissances en explorant le vivant, la matière, l’Univers et le fonctionnement des sociétés humaines. Depuis plus de 80 ans, y sont développées des recherches pluri et interdisciplinaires sur tout le territoire national, en Europe et à l’international. Le lien étroit que le CNRS tisse entre ses missions de recherche et le transfert vers la société fait de lui un acteur clé de l’innovation en France et dans le monde. Le partenariat qui le lie avec les entreprises est le socle de sa politique de valorisation et les start-ups issues de ses laboratoires (près de 100 chaque année) témoignent du potentiel économique de ses travaux de recherche.

  • Vacant
  • Chercheuse / Chercheur

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